光刻胶是集成电路制造过程中的一种关键材料，它的性能直接影响到电路的集成度。长期以来，由于受技术及相关支撑条件落后等因素的制约，我国微电子技术配套专用光刻胶等关键基础材料的研发及生产一直在低水平徘徊。包括分立器件、液晶显示器件和超大规模集成电路在内的微电子技术制造所需的光刻胶一直依赖进口，直接影响到我国微电子技术的发展。为此，国家相关部委自“十五”开始将光刻胶等微电子技术配套用关键材料列入了重点发展计划中，并给予了大力的支持。

　　据了解，科华微电子是国内第一家专业从事高档光刻胶研发与生产的合资公司。它由此前长期在海外从事光刻胶技术研发的留学归国人员和国内专业实力较强的光刻胶研发机构合作建立，公司拥有国内外知名的技术专家团队。今天开工的这条拥有自主知识产权的光刻胶生产线，达产后将形成年产250吨高档正胶和1000吨配套试剂的能力，经济效益可达1.6亿元。

　　专家指出，我国第一条百吨高档光刻胶生产线的建成及开工具有重大意义，它使我国在高性能集成电路制造方面不再受制于人，完善了我国集成电路制造的产业链，其原材料的本地化必将带动我国精细化工特别是高纯试剂的发展。

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